Tibco News, 30. Juni, die niederländische Regierung hat die neuesten Vorschriften zur Exportkontrolle von Halbleiterausrüstung erlassen. Einige Medien interpretierten dies als eine erneute Eskalation der Kontrolle der Fotolithographie gegenüber China auf alle DUV.Tatsächlich zielen diese neuen Exportkontrollbestimmungen auf fortschrittliche Technologien zur Herstellung von 45-nm-Chips und darunter ab, darunter hochmoderne ALD-Anlagen zur Atomabscheidung, Epitaxie-Wachstumsanlagen, Plasmaabscheidungsanlagen und Immersionslithographiesysteme sowie die verwendete Technologie und Software solch fortschrittliche Ausrüstung zu nutzen und zu entwickeln.
In einer Erklärung gegenüber Tibco betonte ASML, dass die neuen Exportkontrollbestimmungen der niederländischen Regierung nur einige der neuesten DUV-Modelle abdecken, darunter den TWINSCAN NXT:2000i und nachfolgende Immersionslithographiesysteme.Die EUV-Lithographie war bisher eingeschränkt und der Versand anderer Systeme wird nicht von der niederländischen Regierung kontrolliert.Laut Informationen auf der offiziellen ASML-Website verfügt das DUV-Immersionslithographiesystem, einschließlich der drei Lithographiemaschinen TWINSCAN NXT:2050i, NXT:2050i und NXT:1980Di, über die Waferverarbeitung im 38-nm- bis 45-nm-Prozess.
Darüber hinaus sind trockene DUV-Lithographiemaschinen, die zur Waferverarbeitung über 45 nm geeignet sind, wie z. B. 65 nm bis 220 nm-Prozesse, wie TWINSCAN XT:400L, XT:1460K, NXT:870 usw., nicht in der niederländischen Sanktionsliste enthalten.
Die von Tibco übersetzte niederländische Kontrollliste lautet wie folgt:
Die vom Minister für Außenhandel und Entwicklungszusammenarbeit der Niederlande herausgegebene Verordnung MinBuza.2023.15246-27 sieht Lizenzanforderungen für den Export von fortschrittlicher Produktionsausrüstung für Halbleiter vor, die zuvor nicht in Anhang I der Verordnung Nr. 2021/821 (in Bezug auf fortschrittliche Halbleiter) aufgeführt ist Fertigungsanlagen)
Artikel 2: Diese Verordnung verbietet den Export moderner Halbleiterproduktionsanlagen aus den Niederlanden ohne Genehmigung des Ministers.
Artikel 3:
1. Der Antrag auf die in Artikel 2 genannte Genehmigung wird vom Exporteur gestellt und dem Staatsanwalt vorgelegt.
2. Der Antrag muss in jedem Fall enthalten:
a) Name und Anschrift des Exporteurs;
b）Name und Adresse des Empfängers und Endbenutzers der fortschrittlichen Halbleiterfertigungsausrüstung;
c）Name und Adresse des Empfängers und Endbenutzers der fortschrittlichen Halbleiterfertigungsausrüstung.
3, in jedem Fall hat der Staatsanwalt das Recht, vom Exporteur die Vorlage des Vertrags über die Ausfuhr und eine Erklärung über die Endverwendung zu verlangen.
Artikel 4:
Die in Artikel 2 beschriebene Lizenz kann Bedingungen und Bestimmungen unterliegen.
Die Erteilung der in Artikel 2 beschriebenen Lizenz kann mit Qualifikationen erfolgen.
Artikel V:
Die in Artikel II genannten Lizenzen können in folgenden Fällen widerrufen werden:
a) Die Lizenz wurde auf der Grundlage falscher oder unvollständiger Angaben ausgestellt;
b) Die Bedingungen, Konditionen und Einschränkungen der Lizenz wurden nicht befolgt;
c)Aus Gründen der nationalen Außen- und Sicherheitspolitik.
Zeitpunkt der Veröffentlichung: 02.07.2023